ስለ ሲሲ ነጠላ ክሪስታል እድገት ሂደት ምን ያህል ያውቃሉ?

የፊዚካል ትነት ማስተላለፊያ ዘዴ (PVT)
የፊዚካል ትነት ማስተላለፊያ ዘዴ በብዛት ጥቅም ላይ ከሚውሉት የሲሊኮን ካርቦይድ የእድገት ሂደቶች አንዱ ነው። የአንድ ክሪስታል ሲሊኮን ካርቦይድ እድገት በዋናነት በሲክ ዱቄት ውስጥ በመውጣት እና በከፍተኛ የሙቀት መጠን ሁኔታዎች ውስጥ በዘር ክሪስታል ላይ እንደገና በመቀመጥ ላይ የተመሰረተ ነው። በተዘጋ ግራፋይት ክሩሲብል ውስጥ፣ የሲሊኮን ካርቦይድ ዱቄት ወደ ከፍተኛ ሙቀት ይሞቃል፣ የሙቀት ቅልመትን በመቆጣጠር፣ የሲሊኮን ካርቦይድ እንፋሎት በዘር ክሪስታል ወለል ላይ ይጠመቃል፣ እና ቀስ በቀስ ትልቅ መጠን ያለው ነጠላ ክሪስታል ያድጋል።
በአሁኑ ጊዜ የምናቀርበው ሞኖክሪስታሊን ሲሲ በአብዛኛው በዚህ የእድገት መንገድ የተሰራ ነው። በኢንዱስትሪው ውስጥም ዋናው መንገድ ነው።

ሊኩዊድ ፌዝ ኤፒታክሲ (LPE)
የሲሊኮን ካርቦይድ ክሪስታሎች የሚዘጋጁት በጠንካራ-ፈሳሽ በይነገጽ ላይ ባለው የክሪስታል እድገት ሂደት በኩል በፈሳሽ ደረጃ ኤፒታክሲ ነው። በዚህ ዘዴ፣ የሲሊኮን ካርቦይድ ዱቄት በከፍተኛ ሙቀት በሲሊኮን-ካርቦን መፍትሄ ውስጥ ይሟሟል፣ ከዚያም የሙቀት መጠኑ ይቀንሳል ስለዚህ ሲሊኮን ካርቦይድ ከመፍትሔው ውስጥ እንዲወጣ እና በዘር ክሪስታሎች ላይ እንዲያድግ። የ LPE ዘዴ ዋና ጥቅም ዝቅተኛ የእድገት ሙቀት ባለበት ከፍተኛ ጥራት ያላቸውን ክሪስታሎች የማግኘት ችሎታ ነው፣ ​​ዋጋው በአንጻራዊ ሁኔታ ዝቅተኛ ነው፣ እና ለትልቅ ምርት ተስማሚ ነው።

ከፍተኛ የሙቀት መጠን ያለው የኬሚካል ትነት ዲፖዚሽን (HT-CVD)
ሲሊኮን እና ካርቦን የያዘውን ጋዝ በከፍተኛ ሙቀት ወደ ምላሽ ክፍሉ በማስገባት፣ የሲሊኮን ካርቦይድ ነጠላ ክሪስታል ንብርብር በቀጥታ በዘር ክሪስታል ወለል ላይ በኬሚካላዊ ግብረመልስ በኩል ይቀመጣል። የዚህ ዘዴ ጥቅም የጋዝ ፍሰት መጠን እና የምላሽ ሁኔታዎች በትክክል ቁጥጥር ሊደረግባቸው ስለሚችል ከፍተኛ ንፅህና እና ጥቂት ጉድለቶች ያሉት የሲሊኮን ካርቦይድ ክሪስታል ማግኘት ይቻላል። የHT-CVD ሂደት እጅግ በጣም ጥሩ ባህሪያት ያላቸውን የሲሊኮን ካርቦይድ ክሪስታሎችን ማምረት ይችላል፣ ይህም በተለይ እጅግ በጣም ከፍተኛ ጥራት ያላቸው ቁሳቁሶች በሚያስፈልጉባቸው አፕሊኬሽኖች ላይ ጠቃሚ ነው።