የታይታኒየም-doped ሰንፔር ክሪስታል ሌዘር ዘንጎች ላይ የወለል ማቀነባበሪያ ዘዴ

ቲታኒየም ጌምስቶን ክሪስታሎች ቲ፡አል2O3 (የዶፒንግ ማጎሪያ 0.35 wt% Ti2O3)፣ የክሪስታል ባዶ እነዚህም የክሪስታል ባዶዎች በሂደት ፍሰት ዲያግራም መሰረት የገጽታ ማቀነባበሪያ ዘዴ የአሁኑ ፈጠራ የታይታኒየም የከበረ ድንጋይ ክሪስታል ሌዘር ዘንግ በስእል 1 ይታያል። የአሁኑ ፈጠራ የታይታኒየም የከበረ ድንጋይ ክሪስታል ሌዘር ዘንግ የወለል ማቀነባበሪያ ዘዴ ልዩ የዝግጅት ደረጃዎች እንደሚከተለው ናቸው ።

<1> የአቅጣጫ መቁረጥ፡ የታይታኒየም ጌምስቶን ክሪስታል መጀመሪያ አቅጣጫውን ያቀናል እና በተጠናቀቀው የሌዘር ዘንግ መጠን መሰረት ከ 0.4 እስከ 0.6 ሚሜ የሚሆን የማቀነባበሪያ አበል በመተው ባለ አራት ማዕዘን ቅርጽ ያለው ባዶ ወደ ባለ አራት ማዕዘን ቅርጽ ያለው ባዶ ይቁረጡ።

<2>አምድ ሻካራ እና ጥሩ መፍጨት፡ ባዶው አምድ ወደ ቴትራጎን ወይም ሲሊንደራዊ መስቀለኛ ክፍል ከ120~180# የሲሊኮን ካርቦዳይድ ወይም ቦሮን ካርቦዳይድ ማሻሻያ በሸካራ መፍጫ ማሽን ላይ ተፈጭቷል፣ በቴፕ እና ከክብ ውጭ የሆነ ስህተት ± 0.01 ሚሜ

<3> የፊት ማቀናበርን ያበቃል፡ የታይታኒየም የከበረ ድንጋይ ሌዘር ባር ባለ ሁለት ጫፍ የፊት ሂደት በተከታታይ ከW40፣ W20፣ W10 boron carbide መፍጨት የመጨረሻ ፊት ጋር በብረት ዲስክ ላይ።በመፍጨት ሂደት ውስጥ, የመጨረሻውን ፊት አቀባዊነት ለመለካት ትኩረት መስጠት አለበት.

<4> ኬሚካዊ-ሜካኒካል ማጥራት፡- ኬሚካዊ-ሜካኒካል ፖሊሽንግ በቅድመ-የተሰራ ኬሚካኒካል ኢክሪንግ መፍትሄ ክሪስታሎችን በፖሊሺንግ ፓድ ላይ የማጥራት ሂደት ነው።አንጻራዊ እንቅስቃሴ እና ሰበቃ ለ workpiece እና polishing ፓድ, በምርምር ውስጥ የኬሚካል etching ወኪል (የሚላተም ፈሳሽ ተብሎ) የያዙ በጥናት ላይ ሳለ እርዳታ ጋር የጽዳት ለማጠናቀቅ.

<5> አሲድ ማሳመር፡- ከላይ እንደተገለፀው ከተጣራ በኋላ የታይታኒየም የከበሩ ድንጋዮች በ H2SO4:H3PO4 = 3:1 (v/v) ድብልቅ ውስጥ ይቀመጣሉ, ከ100-400 ° ሴ የሙቀት መጠን እና ለ 5 አሲድ - የተከተፈ - 30 ደቂቃዎች.ዓላማው በሜካኒካል ንዑስ-ገጽታ ላይ ጉዳት ያደረሰው በሌዘር ባር ላይ ያለውን የንጽህና ሂደትን ማስወገድ እና የተለያዩ ቀለሞችን ማስወገድ ነው, ስለዚህ የንጹህ ወለል ለስላሳ እና ጠፍጣፋ የአቶሚክ ደረጃን ማግኘት ነው. .

<6> የገጽታ ሙቀት ሕክምና፡- በቀደመው ሂደት ምክንያት የሚፈጠሩትን የገጽታ ጭንቀቶች እና ጭረቶች የበለጠ ለማስወገድ እና በአቶሚክ ደረጃ የተዘረጋውን ወለል ለማግኘት የታይታኒየም የከበረ ድንጋይ ከአሲድ መፈልፈያ በኋላ ለ 5 ደቂቃዎች በቆሸሸ ውሃ ታጥቧል። እና የታይታኒየም ጌምስቶን ዘንግ በ 1360 ± 20 ዲግሪ ሴንቲግሬድ አካባቢ ውስጥ ከ 1 እስከ 3 ሰዓታት ባለው የሙቀት መጠን በሃይድሮጂን ከባቢ አየር ውስጥ ተቀምጧል እና ለሙቀት ሕክምና ተጋልጧል.